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摘要:
为研制金属泡沫材料电沉积制备所需的导电泡沫基体,以孔径为0.3mm的微孔聚氨酯泡沫为基体进行化学镀铜新工艺研究.探讨镀液组成、温度、pH及超声强化对化学镀铜工艺的影响,得出化学镀铜优化工艺条件如下:硫酸铜质量浓度为16g/L,酒石酸钾钠质量浓度为30 g/L,Na2EDTA质量浓度为20g/L,α,α'-联吡啶质量浓度为25 mg/L,亚铁氰化钾质量浓度为25 mg/L,PEG-1000质量浓度为1g/L,甲醛含量为5mL/L,镀液pH为12.5~13.0,温度为50℃.在此条件下,镀液稳定性好,镀层光亮平整,镀速可达0.102 mg/min;超声强化可有效提高镀速20%~30%;化学镀铜后的导电泡沫基体经电沉积工艺可制备得到孔隙率为92.2%的三维网状金属泡沫材料.
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文献信息
篇名 微孔聚氨酯泡沫超声强化化学镀铜的研究
来源期刊 中南大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 化学镀铜 微孔 聚氨酯泡沫 超声波 泡沫金属
年,卷(期) 2011,(1) 所属期刊栏目 冶金工程·化学与化学工程
研究方向 页码范围 11-16
页数 分类号 TQ153.3
字数 3547字 语种 中文
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