pH和取代基团对席夫碱电化学氧化还原的影响

• 作者: 朱延松 田晓华 辛广
• 来源期刊: 华东师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 席夫碱 玻碳电极 循环伏安 氧化还原
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 应用化学
• 页码范围: 70-76
• 分类号: O646.54
• 字数: 3860字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5641.2011.02.010

摘要

合成了5种不同结构的席夫碱(N-苯基苯甲亚胺、具有-OH基团的N-苯基-2-羟基苯甲亚胺和N-(2-羟基)苯基苯甲亚胺、具有-NO2基团的N-苯基-4-硝基苯甲亚胺和N-(4-硝基)苯基苯甲亚胺).利用循环伏安法对5种席夫碱水溶液在玻碳电极上的电化学氧化还原行为进行了研究.同时考察了pH对席夫碱-CH=N-基团的电化学氧化还原反应的影响.结果表明:这5种席夫碱的-CH=N基团都可以在玻碳电极上被还原,且是一个电化学上不可逆的过程;席夫碱结构上具有不同的取代基团(-OH和-NO2)和同一取代基团在席夫碱不同的位置上(与碳端相连苯环、与氮端相连苯环)对-CH=N-基团的电化学还原都有较大的影响;而在不同pH缓冲溶液中,H+浓度对5种席夫碱的-CH=N-基团还原也有一定的影响;进而推断出席夫碱在玻碳电极上的电化学还原机理是-CH=N-基团上先在N原子上先得到一个电子,后在C原子上得到一个电子,再得到两个H+的过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	辛广	鞍山师范学院化学系	95	951	17.0	22.0
2	朱延松	鞍山师范学院化学系	6	11	2.0	3.0
3	田晓华	鞍山师范学院化学系	1	2	1.0	1.0