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摘要:
本文利用Silvaco软件对GaN共振隧穿二极管(GaN RTD)进行仿真,重点考虑了界面陷阱密度对GaN RTD量子阱性能及负阻特性的影响。结果显示,当密度大于5×1010 cm-2时,器件的负阻特性几乎消失;当密度在5×106 cm-2至5×109 cm-2时,器件负阻特性会随着测量次数的增加而退化。同时结合Hspice,对由GaN RTD构成的THz振荡器进行仿真,首次得到了陷阱密度对振荡器输出功率和RF转化效率交流特性影响的定量结果。
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文献信息
篇名 GaN共振隧穿二极管及THz振荡器仿真
来源期刊 新型工业化 学科
关键词 GaN共振隧穿二极管 AlGaN/GaN异质结 界面陷阱
年,卷(期) 2011,(10) 所属期刊栏目 科研通讯
研究方向 页码范围 74-78
页数 5页 分类号
字数 1281字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郝跃 西安电子科技大学微电子学院 312 1866 17.0 25.0
2 杨林安 西安电子科技大学微电子学院 17 95 6.0 9.0
3 武小虎 西安电子科技大学微电子学院 2 5 2.0 2.0
4 何寒冰 西安电子科技大学微电子学院 1 3 1.0 1.0
5 梅楠 西安电子科技大学微电子学院 1 3 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
GaN共振隧穿二极管
AlGaN/GaN异质结
界面陷阱
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
新型工业化
月刊
2095-6649
11-5947/TB
16开
北京石景山区鲁谷路35号1106室
2011
chi
出版文献量(篇)
2442
总下载数(次)
8
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