氮化硅复合陶瓷的制备及其显微结构分析

• 作者: 任书霞 席硕硕 张光磊 杨宏
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: SI3N4 复合陶瓷 无压烧结 显微结构
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 33-35
• 页数: 3页
• 分类号: TQ127.2

摘要

以Si3N4、SiC为原料，Y2O3、Al2O3、MgO为助剂，在1500℃氮气气氛下采用无压烧结的方式进行烧结。利用SEM和XRD观察分析了材料的组织结构和物相组成，研究了材料的配方、制备工艺和烧结性能之间的关系。结果表明，当SiC含量为5％时，烧结体的空隙率为22．9％，抗弯强度为395MPa，显微结构均匀、晶粒细小。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任书霞	石家庄铁道大学材料科学与工程学院	29	261	9.0	15.0
2	张光磊	石家庄铁道大学材料科学与工程学院	35	139	6.0	11.0
3	杨宏	石家庄铁道大学材料科学与工程学院	3	4	1.0	2.0
4	席硕硕	石家庄铁道大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0