不同浓度地塞米松对小鼠腭胚突间充质细胞作用规律的研究

• 作者: 卢胜军 廖礼姝 张睿 石冰 蒙田 郑谦
• 来源期刊: 华西口腔医学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 地塞米松 腭胚突间充质细胞 腭裂
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 专栏论著
• 页码范围: 206-209,224
• 分类号: R782.2
• 字数: 4402字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-1182.2011.02.027

摘要

目的 研究细胞水平地塞米松(Dex)致腭裂畸形的生物学机制,筛选出影响腭胚突间充质(EPM)细胞生长的地塞米松最适浓度.方法 腭胚突问充质细胞进行原代培养,实验组细胞分别以1×l0-9、1×10-8、1×10-7和1×10-6mol·L-1地塞米松加以干预,MTT比色法检测各组细胞的增殖率,碘化丙啶(PI)染色观察各组细胞的凋亡情况.结果 在血清质量分数为10%条件下,随着Dex浓度的增加,细胞增殖率降低.第3天达到了地塞米松药物作用的最高峰.Dex浓度为1×10-6mol·L-1组与对照组相比,各时段的P值均小于0.01.结论 地塞米松在加药后第3天药物作用最显著,之后随着药物的代谢,作用减弱:浓度1×10-6mol·L-1的地塞米松,既有一定程度的抑制EPM细胞生长的作用,又不会导致大量的细胞死亡.其可作为在细胞水平研究地塞米松致畸的生物学机制的最适浓度.