Cu/Ni多层纳米线力学性能尺寸效应的分子动力学模拟

• 作者: 卢子兴 杨振宇 王涛
• 来源期刊: 计算力学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 屈服应力 尺寸效应 界面 分子动力学
• 年，卷（期）: 2011,（z1）
• 所属期刊栏目: 复杂材料的力学行为与本构模拟
• 页码范围: 147-151
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.1
• 语种: 中文

摘要

Cu/Ni多层纳米线因其特殊的结构和优异的物理性能在微/纳电子机械系统(MEMS/NEMS)中有广泛的应用.本文利用分子动力学方法模拟了Cu/Ni多层纳米线的拉伸变形,研究了纳米线屈服应力的尺寸效应,探讨了界面结构的差异对多层纳米线缺陷演化机制的影响.结果表明,带共格界面多层纳米线的屈服应力随单金属层厚度h的减小先升高后降低,表现出明显的尺寸效应;存在一个临界厚度,约为2个平均晶格常数,此时材料同时具有较高的屈服强度和良好的廷展性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢子兴		122	1697	25.0	37.0
2	杨振宇		20	349	7.0	18.0
3	王涛		30	249	9.0	15.0