厚样品电子断层成像中的电子透过率非线性效应

• 作者: 张海波 曹猛 李瀛台 王芳
• 来源期刊: 西安交通大学学报
• 关键词: 断层成像 透射电子显微术 非线性效应 厚样品
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 页码范围: 50-54
• 分类号: TN16|O463
• 语种: 中文

摘要

为提高透射电子显微术中厚样品电子断层成像的质量,研究了电子透过率与样品质量厚度之间的非线性关系对厚样品电子断层成像的影响.在微米量级厚样品电子透过率实测结果的基础上,通过计算机模拟生成系列投影像并进行了图像重构.模拟结果表明,电子透过率的非线性会在重构结果中产生伪结构,投影值偏离量随投影位置的变化率与伪结构相关.进一步评价了样品在不同倾斜角度范围时电子的非线性透过率对图像重构质量的影响,发现这种影响随样品倾斜角度增大而增强,并有可能降低图像重构的质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张海波	西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室	25	90	5.0	6.0
2	王芳	西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室	50	197	9.0	12.0
3	曹猛	西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室	25	109	6.0	9.0
4	李瀛台	西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室	1	1	1.0	1.0