科学家发现温度在蘸笔纳米光刻技术申作用

• 来源期刊: 功能材料信息
• 学科: 化学
• 关键词: 纳米光刻技术 美国科学家 温度 原子力显微镜 表面构造 纳米结构 化学传感器 分子沉积
• 年，卷（期）: gnclxx_2011,（6）
• 页码范围: 54
• 页数: 1页
• 分类号: O657.1

摘要

美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用，据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能在物质表面构造大小为20纳米的结构。借助这一技术，科学家们能廉价地在多种材料表面构造和种植出纳米结构，用以制造电路和化学传感器，或者研究药物如何依附于蛋白质和病毒上。 为了在一个基座上直接构造纳米结构，科学家们一般使用原子力显微镜（AFM）探针做笔，通过分子扩散将墨水分子沉积在基座表面上。这项技术很昂贵，需要特殊的环境且只能使用几种材料。而蘸笔纳米光刻技术则利用原子力显微镜探针把墨水分子传输至基底表面，使之形成白组装的单分子层，