工作压强对硅掺杂辉光放电聚合物结构和性能的影响

• 作者: 何智兵 唐永建 张颖 李萍 闫建成
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 硅掺杂辉光放电聚合物薄膜 工作压强 傅里叶变换红外吸收光谱 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、力学和热学性质
• 页码范围: 578-583
• 分类号: O461.21
• 语种: 中文

摘要

采用辉光放电聚合技术,在不同工作压强条件下制备了掺硅的辉光放电聚合物(Si-GDP)薄膜.并采用傅里叶变换红外吸收光谱和X射线光电子能谱(XPS)对Si-GDP薄膜进行了表征,分析了压强变化对其内部结构及成分的影响.利用紫外-可见光谱对Si-GDP薄膜的光学带隙进行了分析.结果表明:Si-GDP薄膜中Si元素主要以Si-C,Si-H,Si-O,Si-CH3的键合形式存在;随着工作压强的增大,薄膜中Si-C键相对含量先减小后增加;从Si-GDP薄膜的XPS分析可以发现,C-C与C=C含量相对比值随压强的增大而减小.光学带隙的宽度也随压强的增大先减小后增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	李萍	四川大学原子与分子物理研究所	196	1039	14.0	22.0
3	何智兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	46	212	7.0	11.0
4	张颖	四川大学原子与分子物理研究所	73	375	10.0	17.0
8	闫建成	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	7	27	4.0	4.0