NdFeB表面磁控溅射沉积Ti/Al多层膜的结构及耐腐蚀性能

• 作者: 余超 冒守栋 宋振纶 汪少杰 谢婷婷 郑必长
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁体 Ti/Al多层膜 耐腐蚀 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 13-19
• 分类号: TG174.444
• 字数: 3299字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2012.03.003

摘要

采用直流磁控溅射技术在烧结NdFeB磁体表面沉积Ti/Al多层膜,并研究其结构及在NaCl溶液中的耐腐蚀性能.在Ti/Al多层膜中,Ti层为密排六方结构,成功打断了Al层(面心立方结构)的柱状晶结构生长.与纯Al膜相比,Ti/Al多层膜具有更致密的表面,且周期数增加,表面越平整致密.动电位极化曲线结果发现,纯Al膜试样的自腐蚀电流密度为1.9×10-5A/cm-2左右,5周期Ti/Al多层膜试样的自腐蚀电流密度约为1.1×10 -7 A/cm2,比纯Al膜小近两个数量级,且随着多层膜周期数的增加,其腐蚀电流密度进一步减小.这些结果表明在快速且破坏性强的腐蚀情况下,Ti/Al多层膜抗腐蚀能力比纯Al膜好,且随着周期数的增加进一步提高.NaCl溶液中长期腐蚀试验时,Ti/Al多层膜的耐腐蚀性能不如纯Al膜,这可能是由Ti层和Al层间形成原电池且多层膜应力较大导致.