原文服务方: 原子能科学技术       
摘要:
在不同偏压下,利用多弧离子镀技术在U和Si基体上制备了Ti/TiN多层薄膜.利用X射线衍射仪和扫描电镜对多层膜的组织结构和薄膜界面形貌进行了分析.研究表明:脉冲偏压不但影响多层膜物相各衍射峰的强度,还诱导新相Ti2N的出现.制备的多层膜呈“犬牙”交错的层状、柱状结构生长.随脉冲偏压的增加,柱状晶结构细化,薄膜变得更加致密.通过50 μg/g Cl-溶液腐蚀研究表明:Ti/TiN多层膜提高抗腐蚀性能源于层状失效,使得腐蚀介质到达基体更加困难,抗腐蚀性能优良.
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文献信息
篇名 偏压对铀表面多弧离子镀Ti/TiN多层膜的结构及抗腐蚀性能影响研究
来源期刊 原子能科学技术 学科
关键词 偏压 Ti/TiN多层膜 结构 抗腐蚀性能
年,卷(期) 2011,(8) 所属期刊栏目 技术及应用
研究方向 页码范围 1020-1024
页数 分类号 TL214.6
字数 语种 中文
DOI
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘天伟 9 42 4.0 6.0
2 江帆 6 22 3.0 4.0
3 唐凯 9 37 4.0 5.0
4 魏强 10 33 4.0 5.0
5 王小英 11 30 4.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
偏压
Ti/TiN多层膜
结构
抗腐蚀性能
研究起点
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期刊影响力
原子能科学技术
月刊
1000-6931
11-2044/TL
大16开
北京275信箱65分箱
1959-01-01
中文
出版文献量(篇)
7198
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