硅烷偶联剂KH-570表面改性纳米SiO2

• 作者: 兰云军 刘若望 张云浩 王彦 翟兰兰 袁继新
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米SiO2 硅烷偶联剂 表面改性
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 752-756
• 分类号: TB332
• 语种: 中文

摘要

采用硅烷偶联剂KH-570在酸性条件下对纳米SiO2表面进行改性,并对改性前后的纳米SiO2采用粒径分析仪、傅里叶红外变换光谱仪、紫外-可见光光谱仪、扫描电镜等仪器进行了分析和表征。结果表明,硅烷偶联剂KH-570能成功地对纳米SiO2表面进行改性,使其表面化学键合了硅烷偶联剂的有机官能团,降低了颗粒团聚程度,提高了纳米SiO2在有机介质中的分散程度

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁继新	温州大学浙江省皮革工程重点实验室	22	319	10.0	17.0
2	兰云军	温州大学浙江省皮革工程重点实验室	149	815	14.0	20.0
3	刘若望	温州大学浙江省皮革工程重点实验室	25	257	9.0	15.0
4	翟兰兰	温州大学浙江省皮革工程重点实验室	8	104	4.0	8.0
5	张云浩	温州大学浙江省皮革工程重点实验室	2	81	2.0	2.0
6	王彦	温州大学浙江省皮革工程重点实验室	1	71	1.0	1.0