半导体制造装备抗等离子冲蚀用氧化物陶瓷

• 作者: 于月光 任先京 侯伟骜 冀晓鹃
• 来源期刊: 热喷涂技术
• 关键词: 氧化钇 抗等离子冲蚀性 高纯
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与涂层性能
• 页码范围: 9-12,27
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-7127.2012.03.003

摘要

在半导体及液晶显示屏的刻蚀制造装备中，高纯氧化铝和高纯氧化钇作为抗等离子冲蚀材料已得到广泛应用。对不同等离子能量下涂层相关性能的研究显示，高纯氧化钇涂层较高纯氧化铝涂层及氧化铝烧结块体表现出更为优异的抗等离子冲蚀性能。尽管氧化钇涂层的性能略低于氧化钇烧结块材，但随着等离子能量的提高，两者性能的差异也逐渐减小。随着等离子能量在实际工况下不断提高，氧化钇涂层也得到了更为广泛的应用。