干湿法腐蚀工艺条件下CdTe薄膜光谱研究

• 作者: 宋慧瑾 鄢强
• 来源期刊: 成都大学学报（自然科学版）
• 关键词: 等离子体 刻蚀 CdTe薄膜 太阳电池
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 页码范围: 267-269
• 页数: 3页
• 分类号: TM914.42
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-5422.2012.03.020

摘要

采用等离子束溅射轰击刻蚀和溴甲醇腐蚀对CdTe薄膜表面进行后处理．对比研究了2种腐蚀条件下CdTe薄膜的光谱特性．结果表明：等离子束溅射轰击刻蚀可以彻底清除CdTe薄膜表面的氧化层，刻蚀后的CdTe薄膜颗粒更为均匀致密，等离子体刻蚀与溴甲醇腐蚀相比，可以改善CdTe薄膜表面的粗糙度，增强薄膜的附着力，改善薄膜的性能．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋慧瑾	成都大学工业化制造学院	40	54	4.0	5.0
2	鄢强		5	13	2.0	3.0