高分辨率电子工业用数字化X射线检测系统

• 作者: 李伟
• 来源期刊: 应用光学
• 学科: 工学
• 关键词: 微焦斑X射线源 双近贴式X射线像增强器 数字化成像 分辨率
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 光电系统与工程
• 页码范围: 654-659
• 分类号: TN144|TP391.4
• 字数: 1943字
• 语种: 中文
• DOI: 10.5768/JAO201233.0401002

摘要

提出一种高分辨率电子工业用数字化X射线检测系统的总体设计方案,选择微焦斑X射线源和双近贴式X射线像增强器作为该系统的关键器件,分析了微焦斑X射线源的焦斑尺寸对系统分辨率的影响,并且建立了微焦斑X射线源和双近贴式X射线像增强器自身分辨率及成像的几何放大率对系统最终分辨率影响的数学模型.通过数学模型得出了几何放大率同系统分辨率的关系曲线.设计了光路及图像采集装置,并用VC 6.0完成了实用的X射线图像处理软件,研制了完整的成像系统样机并进行了调试与实验.这种成像系统有效视野可达75 mm,分辨率为1601p/em.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李伟	长安大学信息工程学院	84	531	11.0	21.0