真空阴极电弧制备TiAlN涂层的硬度及摩擦学性能研究

• 作者: 柯培玲 汪爱英 陈锋光
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlN N2气压 基体负偏压 硬度 摩擦学
• 年，卷（期）: 2012,（12）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 105-108
• 分类号: TB383
• 字数: 3313字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-023X.2012.12.030

摘要

采用真空阴极电弧制备了TiAlN涂层,研究了N2气压和基体负偏压对涂层硬度的影响规律,分析了涂层的致硬机理,探讨了硬度对摩擦学性能的影响.结果表明,N2降低入射离子能量,降低增原子扩散,导致晶粒细化；基体负偏压增大入射离子能量,导致涂层致密化并依次出现(200)、(111)、(220)、(200)择优取向.TiAlN涂层的硬度受Ti、Al、N原子间键能,生长面择优取向及晶粒显微组织的影响.其中最薄弱因素起决定作用.摩擦学性能研究表明,高硬度TiAlN涂层易形成磨粒磨损,摩擦系数和磨损率高；低硬度TiAlN涂层易发生粘着磨损,摩擦系数和磨损率低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪爱英	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	33	206	9.0	13.0
2	柯培玲	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	22	149	7.0	11.0
3	陈锋光	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	2	19	2.0	2.0