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摘要:
SiC单晶片表面质量对其后续半导体器件的制造有很大影响,但其材料的高硬度和高脆性,使切片过程变得非常困难.本文在往复式电镀金刚石线切割装置上采用单因素和正交法进行了SiC单晶切割实验,研究了工件转速、线锯速率、工件进给速率、线锯磨损对晶片表面粗糙度的影响规律以及三维形貌特点.结果表明:附加工件旋转运动,晶片表面质量提高,划痕减少、深度变浅;线速增大、工件旋转速率增大或工件进给速率减小,表面粗糙度值减小;线锯磨损晶片表面粗糙度值增大.相对线速和线锯磨损,工件转速和工件进给速率对晶片表面质量及粗糙度的影响更大.应在综合考虑效率和线锯损耗的基础上合理确定切割参数,尤其是工件进给速率.
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关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 工艺参数对SiC单晶片切割表面质量的影响
来源期刊 宇航材料工艺 学科 工学
关键词 金刚石线锯 工件旋转 SiC单晶片 工艺参数 表面质量
年,卷(期) 2012,(3) 所属期刊栏目 新材料新工艺
研究方向 页码范围 59-62,67
页数 分类号 TG48
字数 3527字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-2330.2012.03.014
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李言 西安理工大学机械与精密仪器工程学院 361 3453 31.0 39.0
2 李淑娟 西安理工大学机械与精密仪器工程学院 137 1091 18.0 27.0
3 袁启龙 西安理工大学机械与精密仪器工程学院 80 731 16.0 22.0
4 杨明顺 西安理工大学机械与精密仪器工程学院 123 774 13.0 22.0
5 王肖烨 西安理工大学机械与精密仪器工程学院 16 65 4.0 7.0
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金刚石线锯
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SiC单晶片
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宇航材料工艺
双月刊
1007-2330
11-1824/V
大16开
北京9200信箱73分箱
1971
chi
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