MOCVD法制备钯膜用的前驱体研究现状

• 作者: 刘伟平 叶青松 常桥稳 谌喜珠 陈立桥 陈高芳
• 来源期刊: 贵金属
• 学科: 工学
• 关键词: 金属材料 钯薄膜 前驱体 金属有机化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 综合论述
• 页码范围: 78-83
• 分类号: TG146.3+6
• 字数: 3376字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-0676.2012.01.015

摘要

金属钯薄膜作为一种新型的稀贵金属低维材料,因为其优异的物理和化学性能,在耐高温涂层、微电子、膜反应器、催化等领域有着非常重要的应用.钯薄膜优异的性能及广阔的应用前景引起人们广泛的关注.介绍了金属有机化学气相沉积(MOCVD)法制备钯膜用前驱体的研究进展以及MOCVD工艺中各类前驱体的优缺点,概述了其目前研究的热点和进一步研究的方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶青松	昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室	20	54	5.0	6.0
2	刘伟平	昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室	79	385	9.0	15.0
3	谌喜珠	昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室	28	141	6.0	10.0
4	常桥稳	昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室	18	36	4.0	5.0
5	陈高芳	昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室	2	2	1.0	1.0
6	陈立桥	昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室	6	14	2.0	3.0