原文服务方: 太原理工大学学报       
摘要:
用低压MOCVD法,以四异丙纯钛为源物质,高纯氮气作为载气,氧气为反应气体,制备出了TiO2薄膜.考察出了沉积温度、基片距离均对沉积速率有影响,发现在不同反应条件下TiO2薄膜生长行为受动力学控制或受扩散控制.
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TiO2
多孔
溶胶-凝胶法
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 用MOCVD法制备TiO2薄膜
来源期刊 太原理工大学学报 学科
关键词 二氧化钛 薄膜 化学气相沉积
年,卷(期) 2003,(2) 所属期刊栏目 化学工程与技术
研究方向 页码范围 222-225
页数 4页 分类号 TQ134.1+1
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-9432.2003.02.035
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张建明 太原理工大学化学工程与技术学院 20 64 4.0 7.0
2 崔丽萍 太原理工大学化学工程与技术学院 15 138 6.0 11.0
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研究主题发展历程
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二氧化钛
薄膜
化学气相沉积
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
太原理工大学学报
双月刊
1007-9432
14-1220/N
大16开
太原市迎泽西大街79号3337信箱
1957-01-01
汉语
出版文献量(篇)
4103
总下载数(次)
0
总被引数(次)
28999
论文1v1指导