SENTECHSI500D等离子沉积系统在中国的第一次安装

• 来源期刊: 电子元器件应用
• 学科: 工学
• 关键词: 沉积系统 等离子体 安装 中国 沉积薄膜 CVD设备 SIOX 研究所
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 页码范围: 63
• 页数: 1页
• 分类号: TN305

摘要

东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECHS1500D等离子体沉积系统。S1500D等离子沉积系统是ICP—PECVD设备，用于在基片上沉积SiOx，SiOxNy或SiNy薄膜。沉积薄膜的厚度、折射率、应力可以简单的、连续的调节。