C72衍生物C72X4(X=H,F,Cl)的理论研究

• 作者: 刘丽影 沈洪涛 王东来 翟玉春
• 来源期刊: 化学研究与应用
• 学科: 化学
• 关键词: 密度泛函理论 C72 C72X4 电子结构 稳定性
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1202-1206
• 页数: 5页
• 分类号: O641.12
• 字数: 3591字
• 语种: 中文

摘要

在混合密度泛函B3LYP理论下,用6-31G*基函数对富勒烯C72及其衍生物C72X4(X=H,F,Cl)进行了几何构型优化.计算了分子静电势、前线轨道能级差、反应能、核独立化学位移(NICS)和振动频率.计算结果表明,C72(#11188)球外负静电势出现在一对相邻五边形公共顶点以及两个六边形-五边形-六边形公共顶点区域,这些点即为化学反应中最可能的活性点；C72X4均是势能面上的稳定驻点；C72X4的能隙比C72 大,这些加成反应都是放热的,并且具有很强的芳香性.因此它们都有可能合成出来.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翟玉春	东北大学材料与冶金学院	596	6449	37.0	51.0
2	王东来	鞍山师范学院化学系	24	58	5.0	7.0
3	沈洪涛	东北大学材料与冶金学院	16	35	3.0	4.0
4	刘丽影	东北大学材料与冶金学院	11	36	3.0	5.0