强流电子束聚焦数值模拟

• 作者: 代志勇 廖树清 张篁 朱隽 董攀 谢宇彤
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 粒子模拟 强流电子束 薄磁透镜 聚焦
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 1970-1974
• 分类号: O463
• 字数: 2741字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20122408.1970

摘要

采用粒子模拟(PIC)方法模拟了强流电子束在薄磁透镜中的聚焦.建立了强流电子束的聚焦模型,模拟了“神龙一号”加速器某次实验的结果,得到的模拟结果非常接近实验值,证明采用建立的PIC模型模拟强流束经过磁透镜时的聚焦是可信的.应用此模型模拟了电子束参数(入射半径、发射度、能散度、相位角等)对焦斑直径的影响,结果表明:在模拟条件下,电子束平行入射时最佳束包络半径位于20.0～22.5 mm；发射度和能散度对焦斑直径的影响和理论公式吻合得较好；只有入射电子束包络半径和相位角匹配时才能得到小的焦斑直径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱隽	中国工程物理研究院流体物理研究所	18	44	5.0	5.0
2	代志勇	中国工程物理研究院流体物理研究所	35	101	5.0	9.0
3	廖树清	中国工程物理研究院流体物理研究所	12	21	3.0	4.0
4	谢宇彤	中国工程物理研究院流体物理研究所	18	58	5.0	7.0
5	张篁	中国工程物理研究院流体物理研究所	27	98	6.0	8.0
6	董攀	中国工程物理研究院流体物理研究所	17	27	3.0	4.0