基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究

• 作者: 于军胜 何渝 刘旗 周绍林 唐燕 朱江平 胡松
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 光栅 光刻对准 反射式光路 叠栅条纹 光栅标记
• 年，卷（期）: 2012,（9）
• 所属期刊栏目: 全息与信息处理
• 页码范围: 163-167
• 页数: 5页
• 分类号: O436.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201239.0909001

摘要

针对接近接触式光刻技术的特点,提出了一种实用的反射式光刻对准方案.方案采用差动叠栅条纹对准技术,以叠栅条纹相位作为对准信号的载体.在掩模和硅片上分别设计两组位置相反、周期接近的光栅对准标记.电荷耦合器件(CCD)成像系统接收叠栅条纹图像,采用傅里叶变换提取叠栅条纹相位,得到掩模与硅片的相对位置关系.设计的标记可同时探测横纵方向的对准偏差.给出了合理的光路设计方案,详细分析了整个系统对准的内在机制,建立了可行的数学模型.研究表明,当对准偏差小于1 pixel时,最大误差低于0.002 pixel.与透射式光路对比,该方案更具有实用性,满足实际对准的要求.