化学刻蚀制备黑硅材料的研究现状及展望

• 作者: 唐利斌 廖承菌 李学铭 杨培志
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 黑硅 化学刻蚀 金属催化 微纳结构
• 年，卷（期）: 2012,（21）
• 所属期刊栏目: 本期专题:新型硅材料
• 页码范围: 142-147
• 页数: 6页
• 分类号: TM23
• 字数: 4272字
• 语种: 中文

摘要

基于黑硅材料的发展,讨论了国内外化学刻蚀制备黑硅的研究进展,包括掩膜辅助、金属离子辅助化学刻蚀.结果表明,黑硅材料的表面特殊结构能够有效降低硅表面的反射率,从而提高太阳能电池转换效率.此外,化学刻蚀法制备黑硅简便易行、成本低廉,高效可靠,具有良好的发展前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐利斌		60	279	10.0	12.0
2	廖承菌	云南师范大学可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室	11	24	3.0	4.0
6	杨培志	云南师范大学可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室	42	68	5.0	6.0
10	李学铭	云南师范大学可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室	8	14	2.0	3.0