YSZ流延片的等静压工艺研究

• 作者: 尹亮亮 彭梓 王杏 谢光远 黄海琴
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 流延 等静压工艺 气孔
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 12-14,21
• 分类号: TP212.6
• 字数: 3165字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-023X.2012.04.004

摘要

氧化钇稳定氧化锆(YSZ)流延片广泛应用于生产陶瓷传感器,但是流延素坯结构疏松、密度较低,严重影响产品强度.研究了等静压工艺对YSZ流延素坯的影响,通过测试密度、抗弯强度和观察微观结构得出,温等静压工艺更适合YSZ流延片的处理,并找出了最佳工艺参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢光远	武汉科技大学材料与冶金学院	34	97	7.0	8.0
2	彭梓	武汉科技大学材料与冶金学院	4	14	2.0	3.0
3	黄海琴	武汉科技大学材料与冶金学院	11	57	6.0	7.0
4	王杏	武汉科技大学材料与冶金学院	8	31	4.0	5.0
5	尹亮亮	武汉科技大学材料与冶金学院	4	26	3.0	4.0