| 篇名 | Characteristics and properties of metal aluminum thin films prepared by electron cyclotron resonance plasma-assisted atomic layer deposition technology | ||
| 来源期刊 | 中国物理B(英文版) | 学科 | |
| 关键词 | aluminum plasma-assisted atomic layer deposition annealing | ||
| 年,卷(期) | 2012,(7) | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 559-565 | |
| 页数 | 7页 | 分类号 | |
| 字数 | 语种 | 英文 | |
| DOI | 10.1088/1674-1056/21/7/078105 | ||