氩离子轰击对四面体非晶碳膜内应力和摩擦系数影响的研究

• 作者: 何亮 刘德连 宁涛 韩亮
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氩离子轰击 X射线光电子能谱 内应力 摩擦系数
• 年，卷（期）: 2012,（17）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：结构、力学和热学性质
• 页码范围: 410-416
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文

摘要

利用磁过滤真空阴极电弧技术制备了sp^3键大于80%的四面体非晶碳（ta-C）薄膜, 通过冷阴极离子源产生keV能量的氩离子轰击ta-C薄膜,研究了氩离子轰击能量对ta-C薄膜结构, 内应力以及耐磨性的影响.通过X射线光电子能谱和原子力显微镜研究了氩离子轰击对薄膜结构 与表面形貌的改性,研究表明,氩离子轰击诱导了ta-C薄膜中sp^3键向sp^2键的转化, 并且随着氩离子轰击能量的增大,薄膜中sp^2键的含量逐渐增多, 薄膜内应力随着氩离子轰击能量的增大逐渐减小.氩离子轰击对薄膜的表面形貌有较大影响, 在薄膜表面形成刻蚀坑,并且改变了薄膜的表面粗糙度,随着氩离子轰击能量的增大, 薄膜的表面粗糙度也会逐渐增大.通过摩擦磨损仪的测试结果,氩离子轰击对薄膜的初始摩擦系数影响较大, 但是对薄膜的稳定摩擦系数影响较小,经过氩离子轰击前后的ta-C薄膜的摩擦系数为0.1左右, 并且具有优异的耐磨性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘德连	西安电子科技大学技术物理学院	38	362	11.0	17.0
2	何亮	西安电子科技大学技术物理学院	36	212	7.0	14.0
3	韩亮	西安电子科技大学技术物理学院	16	38	3.0	6.0
4	宁涛		1	1	1.0	1.0