真空压力控制系统的分析与优化

• 作者: 高颖
• 来源期刊: 科技创业家
• 关键词: 刻蚀反应腔 真空泵 真空阀 真空计 真空开关
• 年，卷（期）: 2012,（15）
• 页码范围: 21-22
• 字数: 2210字
• 语种: 中文

摘要

刻蚀机是半导体制造的关键设备之一,在刻蚀过程中真空系统是最关键的,因为它影响一些与气体流量和压力有关的等离子体参数.用于刻蚀的一个典型的高密度等离子体真空系统,在芯片表面的气体流量高达800sccm 下,能获得1mTorr 范围内或以下的反应腔压力,而且工作压力要求稳定,这就需要有一个稳定可靠的控制系统来时刻监控反应腔的工作压力.真空压力控制系统主要由干泵、分子泵、调压阀、隔离阀、真空计和各种真空检测开关组成.压力的测量是由真空计来实现的,要求具有精度高、稳定性好的优点.压力控制由电动调压阀来完成,要求具有反应快、可靠性好的特点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高颖		2	4	1.0	2.0