纳米SiO2杂化材料的制备及其UV固化性能研究

• 作者: 吴建兵 郝晓刚 颉俊宝 马国章
• 来源期刊: 热固性树脂
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米SiO2 KH-590 接枝改性 紫外光固化
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 加工与应用
• 页码范围: 37-40
• 页数: 4页
• 分类号: TQ034
• 语种: 中文

摘要

采用y-巯丙基三甲氧基硅烷(KH-590)对纳米SiO2改性,制备了表面含—SH基团的纳米SiO2杂化材料.采用红外光谱(FTIR)对改性前后纳米SiO2的结构进行了分析表征,通过热失重(TGA)分析研究了改性纳米SiO2的接枝效果,研究了纳米SiO2杂化材料对紫外光固化涂层性能的影响,利用photo-DSC分析了改性纳米SiO2杂化材料对紫外光固化固化速率的影响.结果表明,含—SH基团的有机物接枝到纳米SiO2表面,接枝率为17.6％.与纳米SiO2相比,在SiO2表面引入—SH可有效克服光固化过程的氧阻效应,同时显著地提高了SiO2/紫外光固化杂化体系的C=C双键转化率、硬度和耐磨性能等.