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非均匀偏振光场的应力工程及应用
非均匀偏振光场的应力工程及应用
作者:
托马斯·G·布朗
郜定山
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
应力
偏振
光场
成像
摘要:
光场偏振态的空间不均匀性对光束聚焦、传播、照明、成像等方面具有奇异的效应.本文将举例说明在光学元件的外周施加确定的应力可以用于对波束传播的基本特性的研究,而且还能获得一些应用,比如旋光器件等.
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篇名
非均匀偏振光场的应力工程及应用
来源期刊
光学与光电技术
学科
物理学
关键词
应力
偏振
光场
成像
年,卷(期)
2013,(6)
所属期刊栏目
武汉光电论坛
研究方向
页码范围
1-6
页数
分类号
O436.3
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-3392.2013.06.001
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
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1
郜定山
1
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研究主题发展历程
节点文献
应力
偏振
光场
成像
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学与光电技术
主办单位:
华中光电技术研究所
武汉光电国家实验室
湖北省光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-3392
CN:
42-1696/O3
开本:
大16开
出版地:
武汉市阳光大道717号
邮发代号:
38-335
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
2142
总下载数(次)
3
总被引数(次)
9791
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