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二维MoS2/石墨烯异质结对圆偏振光的光电响应
二维MoS2/石墨烯异质结对圆偏振光的光电响应
作者:
吴小虎
彭英姿
李源
郑奇烨
原文服务方:
杭州电子科技大学学报(自然科学版)
MoS2/石墨烯异质结
原子层厚度MoS2薄膜
圆偏振光
I-V特性
摘要:
使用化学气相沉积法在石墨烯/SiO2/Si基底上沉积二维MoS2 薄膜制备MoS2/石墨烯异质结,探究该异质结在不同偏振态圆偏振光照射下的光电响应.研究MoS2/石墨烯异质结在不同角度圆偏振光照射下 I‐V 特性曲线和开路电压的变化规律.结果表明:MoS2/石墨烯异质结电流随圆偏振光偏振角的变化周期为π,开路电压随圆偏振光偏振角的变化周期为π/2.实验揭示了在圆偏振光激发下,M oS2/石墨烯异质结的光电响应呈现出周期性变化.
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文献信息
篇名
二维MoS2/石墨烯异质结对圆偏振光的光电响应
来源期刊
杭州电子科技大学学报(自然科学版)
学科
关键词
MoS2/石墨烯异质结
原子层厚度MoS2薄膜
圆偏振光
I-V特性
年,卷(期)
2020,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
74-79
页数
6页
分类号
O484
字数
语种
中文
DOI
10.13954/j.cnki.hdu.2020.02.013
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
彭英姿
杭州电子科技大学理学院物理系
6
18
2.0
4.0
2
李源
杭州电子科技大学理学院物理系
14
19
2.0
4.0
3
郑奇烨
杭州电子科技大学理学院物理系
2
0
0.0
0.0
4
吴小虎
杭州电子科技大学理学院物理系
2
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研究主题发展历程
节点文献
MoS2/石墨烯异质结
原子层厚度MoS2薄膜
圆偏振光
I-V特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
杭州电子科技大学学报(自然科学版)
主办单位:
杭州电子科技大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-9146
CN:
33-1339/TN
开本:
出版地:
邮发代号:
创刊时间:
语种:
chi
出版文献量(篇)
3184
总下载数(次)
0
总被引数(次)
11145
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