原文服务方: 杭州电子科技大学学报(自然科学版)       
摘要:
使用化学气相沉积法在石墨烯/SiO2/Si基底上沉积二维MoS2 薄膜制备MoS2/石墨烯异质结,探究该异质结在不同偏振态圆偏振光照射下的光电响应.研究MoS2/石墨烯异质结在不同角度圆偏振光照射下 I‐V 特性曲线和开路电压的变化规律.结果表明:MoS2/石墨烯异质结电流随圆偏振光偏振角的变化周期为π,开路电压随圆偏振光偏振角的变化周期为π/2.实验揭示了在圆偏振光激发下,M oS2/石墨烯异质结的光电响应呈现出周期性变化.
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关键词热度
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文献信息
篇名 二维MoS2/石墨烯异质结对圆偏振光的光电响应
来源期刊 杭州电子科技大学学报(自然科学版) 学科
关键词 MoS2/石墨烯异质结 原子层厚度MoS2薄膜 圆偏振光 I-V特性
年,卷(期) 2020,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 74-79
页数 6页 分类号 O484
字数 语种 中文
DOI 10.13954/j.cnki.hdu.2020.02.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 彭英姿 杭州电子科技大学理学院物理系 6 18 2.0 4.0
2 李源 杭州电子科技大学理学院物理系 14 19 2.0 4.0
3 郑奇烨 杭州电子科技大学理学院物理系 2 0 0.0 0.0
4 吴小虎 杭州电子科技大学理学院物理系 2 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
MoS2/石墨烯异质结
原子层厚度MoS2薄膜
圆偏振光
I-V特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
杭州电子科技大学学报(自然科学版)
双月刊
1001-9146
33-1339/TN
chi
出版文献量(篇)
3184
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11145
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