X射线照相缺陷定位方法分析与验证

• 作者: 任华友 蔡闰生
• 来源期刊: 宇航材料工艺
• 关键词: X射线 缺陷深度 定位精度
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 测试分析
• 页码范围: 129-133
• 页数: 5页
• 字数: 3357字
• 语种: 中文

摘要

相对于公式法,双标记法解决了焦距和焦点位移测量误差所带来的问题.但此方法在射线检测领域普及程度并不高,其中原因,首先是原理较复杂,针对性研究少,其次是测量精度没有被量化,可信度不高.本文从公式法入手,通过对原理公式的变化分析和线性化分析,明晰了双标记法缺陷深度定位原理,推导了缺陷深度定位公式,利用简化模型,对双标记法的定位精度做了进一步的分析与计算,最后针对具体被检测物,测试验证了双标记法的计算公式和测量精度,用理论和实践证明了方法和精度的可靠性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡闰生		6	11	2.0	3.0
2	任华友		8	54	3.0	7.0