氯硅烷的质谱碎裂规律研究:稳定的Si-Cl键

• 作者: 张华蓉 李飞 蒋剑雄 蒋可志
• 来源期刊: 杭州师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 氯硅烷 氯代烷烃 电子轰击电离质谱 量化计算
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 有机硅专栏
• 页码范围: 297-300
• 页数: 4页
• 分类号: O657.63
• 字数: 2214字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-232X.2013.04.002

摘要

对甲基氯硅烷和氯代烃的EI质谱碎裂规律进行比较和总结.甲基氯硅烷分子离子丢失甲基自由基比丢失氯自由基更容易进行.相应氯代烷烃分子离子的碎裂规律与甲基氯硅烷相反.DFT量化计算结果表明,上述碎裂反应是受热力学控制的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋剑雄	杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室	64	481	12.0	18.0
2	蒋可志	杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室	32	222	10.0	13.0
3	张华蓉	杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室	4	6	2.0	2.0
4	李飞	杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室	2	18	2.0	2.0