硅烯对含氢氯硅烷选择性Si-X键插入反应的理论研究

• 作者: 徐征 李志芳 来国桥 杨雪敏 蒋剑雄 邱化玉 金娟
• 来源期刊: 杭州师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 理论计算 硅烯 含氢氯硅烷 Si-X插入反应
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 有机硅专栏
• 页码范围: 14-20
• 页数: 7页
• 分类号: O64
• 字数: 3636字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-232X.2013.01.003

摘要

采用密度泛函B3LYP/6-31+ +G(d,p)算法,比较了通过位阻效应稳定的二烷基取代硅烯和通过电子效应稳定的二氨基取代硅烯对含氢氯硅烷Si-X(X=H或Cl)键插入反应的反应选择性差异.研究结果表明:(1)二氨基取代硅烯的Si-X键插入反应的反应活性低且放热不明显,产物在热力学上远不及二烷基取代硅烯的产物稳定；(2)二氨基取代硅烯对二甲基氢氯硅烷(Me2SiHCl)表现出了与二烷基取代硅烯不同的反应选择性,Si-Cl插入反应优先于Si-H插入反应.其根本原因在于Si-H插入反应过渡态能量的稳定性对硅烯的亲电性作用的依赖性显著大于Si-Cl插入反应.