氟化钙单晶超精密抛光技术

• 作者: 周林 彭文强 戴一帆 袁征 解旭辉
• 来源期刊: 机械工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氟化钙 光学加工 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2013,（17）
• 所属期刊栏目: 先进光学制造与检测专栏
• 页码范围: 46-51
• 页数: 6页
• 分类号: TH161
• 字数: 2922字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3901/JME.2013.17.046

摘要

针对紫外光学系统对氟化钙(Calcium fluoride,CaF2)晶体高精度、超光滑表面的加工要求,提出通过化学机械抛光(Chemically mechanical polishing,CMP)获得超光滑的表面,并利用离子束抛光(Ion beam figuring,IBF)进一步提升其面形精度的超精密加工工艺新方法.对CaF2晶体表面粗糙度和表面形貌随着CMP去除深度的演化规律进行试验研究,发现CMP可有效去除传统机械研磨抛光过程产生的划痕,并获得表面粗糙度为0.268 nm RMS(0.94 mm×0.7 mm)的超光滑的表面;对CaF2晶体表面粗糙度随IBF中离子入射角度和去除深度的演化规律进行试验研究,发现IBF后CaF2晶体表面变得粗糙,且在入射角度为40°左右时变粗糙的程度最小.因此,利用离子束倾斜40°对CMP后的CaF2晶体平面进行表面面形误差修正,得到面形精度13.14 nm PV,1.06 nm RMS和表面粗糙度为0.281 nm RMS的高精度、超光滑CaF2晶体表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	64	1121	16.0	32.0
2	解旭辉	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	21	255	8.0	15.0
3	周林	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	13	72	6.0	8.0
4	袁征	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	3	23	3.0	3.0
5	彭文强	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	5	19	2.0	4.0