高斯分布激光散焦距离对激光转印Cu薄膜形貌影响及机理分析

• 作者: 刘威 叶交托 王春青 田艳红 窦广彬
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 形貌及界面 激光诱发前向转印 微结构制造
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 169-173
• 页数: 5页
• 分类号: TG456.9
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201340.0507001

摘要

激光诱发前向转印(LIFT)技术作为微加工的一种手段,具有制备微小结构的能力,目前已经成为微细加工领域的研究热点.通过改变高斯分布的激光聚焦位置,进行了Cu薄膜在石英玻璃表面的转印实验,并对转印沉积薄膜进行了光学显微镜、扫描电子显微镜(SEM)和能量弥散X射线(EDX)等分析,探讨了激光散焦距离与沉积薄膜的尺寸、形貌以及厚度均匀性的关系,并在此基础上研究了转印薄膜形貌发生变化的机理.研究结果表明,随着激光光斑离焦距离的增大,转印图形的尺寸先增大后变小,直至消失.转印Cu薄膜的形态从环形或火山形,转变为圆形,并且圆形薄膜的边缘存在大量微小的Cu颗粒.薄膜的转印形式也由开始的液态转印向固态转印演变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王春青		96	921	16.0	24.0
2	田艳红		65	521	14.0	21.0
3	刘威		35	177	5.0	13.0
4	叶交托		3	1	1.0	1.0
5	窦广彬		2	0	0.0	0.0