大口径光学抛光系统的气动压力控制

• 作者: 吕科 李江波 王楷 石为人
• 来源期刊: 仪器仪表学报
• 学科: 工学
• 关键词: 抛光磨头 压力控制 气动控制系统 双模态PID
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 页码范围: 531-536
• 页数: 6页
• 分类号: TP273|TH86
• 字数: 3119字
• 语种: 中文

摘要

为提高大口径光学抛光设备的加工工艺,在具有行星式旋转结构的末端执行器的基础上,提出了一种高精度、高稳定性的气动压力控制系统,解决了整个系统设计中的气动关键技术问题.从整个系统的设计角度分析了执行装置的工作原理和整个气动部分不同参数对控制的影响,以指导压力控制系统的设计.利用压力传感器和比例阀及多组双模态PID控制算法构建了闭环压力控制系统,以实现高精度、高稳定性的抛光盘压力控制.实验结果表明,该气动压力控制系统可以满足大口径抛光系统对压力的设计要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石为人	重庆大学自动化学院	156	2848	28.0	45.0
2	李江波		2	21	2.0	2.0
3	王楷	重庆大学自动化学院	14	220	9.0	14.0
4	吕科	重庆大学自动化学院	2	15	2.0	2.0