原位形成氧氮玻璃中间层连接Si3N4陶瓷

• 作者: 刘春凤 叶枫 张杰 林英魁 虞鸿江 黄玉东
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化硅陶瓷 氧氮玻璃 连接
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 陶瓷
• 页码范围: 275-280
• 页数: 6页
• 分类号: TQ174
• 语种: 中文
• DOI: 10.7521/j.issn.0454-5648.2013.02.24

摘要

用Si3N4-Al2O3-Y2O3-SiO2混合粉制备用于连接氮化硅陶瓷的焊料,原位形成以氧氮玻璃为中间层的氮化硅陶瓷接头.研究了连接过程中温度、压力及气氛对陶瓷接头微观组织及性能的影响.结果表明:在0.1 MPa氩气条件下,接头内含有一定量气孔,氮化硅母材有少量分解；氮气气氛、0.1 MPa条件下可保证陶瓷母材稳定、接头致密,在氧氮玻璃中间层均匀分布有β-SiAlON陶瓷相;当氮气气压增大到0.5 MPa时,陶瓷接头无法实现有效连接.在较低温度下,当连接压力由0.6 MPa增大到1.5 MPa时,接头弯曲强度提高；升高温度,接头强度出现峰值,在1550℃时达到最高,连接压力对接头的影响减小；继续增大压力将使液相焊料流出,甚至母材自身发生变形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张杰	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	269	4262	35.0	52.0
2	黄玉东	哈尔滨工业大学化工学院	285	3267	28.0	41.0
3	叶枫	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	21	98	6.0	8.0
4	刘春凤	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	8	37	4.0	5.0
5	林英魁	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	2	5	1.0	2.0
6	虞鸿江	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	2	5	1.0	2.0