利用海森堡不确定性原理研究全反射X射线光学器件的焦斑极限

• 作者: 丁训良 刘志国 孙天希 孙蔚渊 彭松
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: X射线光学 焦斑极限 海森堡不确定性原理 全反射X射线光学器件
• 年，卷（期）: 2013,（12）
• 所属期刊栏目: 光电子学
• 页码范围: 262-264
• 页数: 3页
• 分类号: O434.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201340.1217001

摘要

全反射X射线光学器件在X射线显微技术中具有重要的应用,有关其焦斑极限的研究对该器件的设计者和使用者具有指导意义.利用海森堡不确定性原理研究了全反射X射线光学器件的焦斑极限.理论结果表明:全反射X射线光学器件的焦斑极限与器件的材料有关;利用镍金属、铅玻璃和硼硅酸盐玻璃制成的全反射X射线光学器件的焦斑极限分别为3.2、4.2和6.6 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘志国		22	85	6.0	8.0
2	孙天希		11	6	1.0	2.0
3	彭松		4	0	0.0	0.0
4	孙蔚渊		2	0	0.0	0.0
5	丁训良		10	27	4.0	5.0