静电层层自组装复合磨粒及抛光液的抛光性能研究

• 作者: 姚伟强 许雪峰 赵彬善 金清波 马国伟 黄亦申
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: 化学机械抛光 抛光液 复合磨粒 聚电解质 硅片
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 机械科学
• 页码范围: 742-745,780
• 页数: 5页
• 分类号: TH117
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-132X.2013.06.007

摘要

利用静电层层自组装原理,通过PDADMAC在聚合物粒子表面改性和吸附不同层数的SiO2磨粒,制备n-SiO2/BGF复合磨粒及其抛光液.分析了交替吸附PDADMAC和SiO2磨粒的BGF微球表面Zeta电位的变化,利用TEM表征了不同层数的n-SiO2/BGF复合磨粒SiO2磨粒的吸附情况.分析了聚合物表面磨粒的吸附层数、游离磨粒浓度、聚合物粒径对复合磨粒抛光液抛光的影响.抛光实验表明:3-SiO2/BGF复合磨粒抛光液的材料去除率最高,为368.8nm/min;复合磨粒抛光液中的聚合物粒子为1～2μm、游离磨料SiO2的质量分数为5％时,材料去除率取得较大值.经3-SiO2/BGF复合磨粒抛光液抛光后的硅表面,在10μm×10μm范围内,表面粗糙度从0.3μm降至0.9nm,峰谷值小于10nm,表明复合磨粒抛光液对硅片具有良好的抛光效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚伟强	浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室	4	5	2.0	2.0
2	黄亦申	浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室	7	43	3.0	6.0
3	马国伟	浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室	1	2	1.0	1.0
4	金清波	浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室	1	2	1.0	1.0
5	赵彬善	浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室	1	2	1.0	1.0