原文服务方: 中国机械工程       
摘要:
利用静电层层自组装原理,通过PDADMAC在聚合物粒子表面改性和吸附不同层数的SiO2磨粒,制备n-SiO2/BGF复合磨粒及其抛光液.分析了交替吸附PDADMAC和SiO2磨粒的BGF微球表面Zeta电位的变化,利用TEM表征了不同层数的n-SiO2/BGF复合磨粒SiO2磨粒的吸附情况.分析了聚合物表面磨粒的吸附层数、游离磨粒浓度、聚合物粒径对复合磨粒抛光液抛光的影响.抛光实验表明:3-SiO2/BGF复合磨粒抛光液的材料去除率最高,为368.8nm/min;复合磨粒抛光液中的聚合物粒子为1~2μm、游离磨料SiO2的质量分数为5%时,材料去除率取得较大值.经3-SiO2/BGF复合磨粒抛光液抛光后的硅表面,在10μm×10μm范围内,表面粗糙度从0.3μm降至0.9nm,峰谷值小于10nm,表明复合磨粒抛光液对硅片具有良好的抛光效果.
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利用复合磨粒抛光液的硅片化学机械抛光
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 静电层层自组装复合磨粒及抛光液的抛光性能研究
来源期刊 中国机械工程 学科
关键词 化学机械抛光 抛光液 复合磨粒 聚电解质 硅片
年,卷(期) 2013,(6) 所属期刊栏目 机械科学
研究方向 页码范围 742-745,780
页数 5页 分类号 TH117
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-132X.2013.06.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 姚伟强 浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室 4 5 2.0 2.0
2 黄亦申 浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室 7 43 3.0 6.0
3 马国伟 浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室 1 2 1.0 1.0
4 金清波 浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室 1 2 1.0 1.0
5 赵彬善 浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室 1 2 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
化学机械抛光
抛光液
复合磨粒
聚电解质
硅片
研究起点
研究来源
研究分支
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期刊影响力
中国机械工程
月刊
1004-132X
42-1294/TH
大16开
湖北省武汉市洪山区南李路湖北工业大学
1990-01-01
中文
出版文献量(篇)
13171
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