基于AFM氮化硅探针刻蚀方法制作聚碳酸酯纳米光栅

• 作者: 李同保 邓晓 马艳 马蕊
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 原子力显微镜 微纳加工 机械加工性 纳米光栅
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 纳米技术
• 页码范围: 320-327
• 分类号: TH140.7|TH145.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.13494/j.npe.20140028

摘要

基于原子力显微镜(AFM)探针的纳米机械刻蚀技术以其成本低、分辨率高的优势被广泛应用于各种纳米元器件的制造中.为了得到最优的光栅结构,首先通过单次刻蚀实验定量分析了刻蚀方向、加载力和刻蚀速率等3个主要加工参数对所得纳米沟槽形貌和尺寸的影响,给出了普通氮化硅探针对聚碳酸酯(PC)的加工特性及加工效率.然后通过改变沟槽间距(100～ 500 nm)得到了不同周期的纳米光栅结构,并确定了这种探针与样品的组合对间距的要求及最佳加工参数:沿垂直于微悬臂长轴向右刻蚀,加载力2.3 μN,刻蚀速率2.6μm/s.最后利用该技术对实验室已有原子光刻技术所得周期为213 nm的一维Cr原子光栅结构进行了复制加工,得到了均匀的213 nm一维光栅,证明这种基于AFM探针的纳米机械刻蚀技术可被广泛应用于纳米加工.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马艳	同济大学物理科学与工程学院	56	410	11.0	17.0
2	李同保	同济大学物理科学与工程学院	41	130	7.0	8.0
3	邓晓	同济大学物理科学与工程学院	5	6	2.0	2.0
4	马蕊	同济大学物理科学与工程学院	6	11	2.0	3.0