离子液体中铜的电沉积行为

• 作者: 刘瑞泉 米红宇 高炜
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 循环伏安 氯化丁基甲基咪唑 铜 电沉积 乙二醇
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 212-219
• 页数: 8页
• 分类号: O646
• 字数: 4624字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1095.2014.30129

摘要

在含有氯化铜的氯化1-丁基-3-甲基咪唑(BMIC)和乙二醇(EG)体系中研究金属铜的电沉积.在BMIC中加入EG,分别研究了EG对离子液体BMIC的粘度和电导率的影响,并通过循环伏安法研究了BMIC-CuCl2-EG溶液中Cu(Ⅱ)的电化学行为,考察了乙二醇浓度、温度和扫描速度对Cu(Ⅱ)电化学行为的影响.结果表明,Cu(Ⅱ)的电还原过程分为两个过程,其中Cu(Ⅱ)/Cu(Ⅰ)是扩散控制下的不可逆过程,Cu(Ⅰ)/Cu是不可逆过程.计算得出,在343 K时,Cu(Ⅱ)/Cu(Ⅰ)还原过程中的扩散系数D为7.0×10-7 cm2/s,传递系数为0.24.在Cu膜表面进行了电沉积,获得金属铜颗粒,经扫描电子显微镜观察Cu的电沉积层的形貌发现,在343 K时沉积30 min后,金属铜晶粒致密,将沉积时间延长至2h后,晶粒呈球状.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘瑞泉	新疆大学化学化工学院	58	506	14.0	20.0
2	米红宇	新疆大学化学化工学院	51	386	12.0	17.0
3	高炜	新疆大学化学化工学院	2	3	1.0	1.0