Compton散射下离子初始速度对等离子体鞘层厚度的影响

• 作者: 刘经天 郝东山
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 激光物理 Compton散射等离子体离子源 离子初始速度 等离子体鞘层
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 量子光学与激光物理
• 页码范围: 443-446
• 页数: 4页
• 分类号: TL51
• 字数: 1861字
• 语种: 中文
• DOI: 103969/j.issn.1000-0364.2014.03.016

摘要

应用相对论理论、Compton散射等离子体离子源和龙格-库塔方法,研究了Compton散射对等离子体鞘层厚度的影响,提出了Compton散射等离子体离子源概念,并将入射光和Compton散射光作为形成等离子体离子初始速度的新机制,给出了Compton散射下鞘层空间内电位梯度随等离子体离子初始速度变化的修正方程,并进行了数值模拟.结果表明,与Compton散射前相比,Compton散射使等离子体鞘层厚度随加速电压增大而明显的非线性增大,这主要是由于Compton散射使离子与电子碰撞频率增大,电子温度升高,使离子初始速度和能量增大的缘故.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘经天	中州大学信息工程学院	20	36	3.0	3.0