大面积高分辨率CsI（Tl）X射线转换屏实验研究

• 作者: 廖华 杨勤劳 王云程 王光超 胡昕 阔晓梅
• 来源期刊: 深圳大学学报（理工版）
• 学科: 工学
• 关键词: 数字成像 掺杂浓度 基底刻蚀 晶柱生长 空间分辨 X射线转换屏
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 【光电工程】
• 页码范围: 174-178
• 页数: 5页
• 分类号: TN143|TL65
• 字数: 3149字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1249.2014.02174

摘要

通过对X射线转换屏制备过程中， Tl+掺杂浓度、基底刻蚀、晶柱生长过程和防潮解等方面的大量实验研究，得到最佳掺杂浓度(摩尔比为0．055%)及合适的基底刻蚀深度(5μm)与工艺，实现对晶柱生长过程中表面形貌、温度、压力和转速的控制，研制出有效直径为100 mm、空间分辨率约为12 lp/mm (厚度为300μm)的CsI ( Tl) X射线转换屏.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡昕	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	21	82	6.0	7.0
2	杨勤劳	深圳大学光电子器件与系统教育部重点实验室光电子学研究所	27	95	6.0	9.0
3	廖华	深圳大学光电子器件与系统教育部重点实验室光电子学研究所	11	56	4.0	7.0
4	王云程	深圳大学光电子器件与系统教育部重点实验室光电子学研究所	2	19	2.0	2.0
5	王光超	深圳大学光电子器件与系统教育部重点实验室光电子学研究所	1	4	1.0	1.0