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摘要:
在NaCl-KCl-NaF-WO3的熔盐体系中在Cu电极上制备了致密的钨沉积层;采用扫描电镜和辉光放电等方法,分析了熔盐组分对钨沉积层的影响。结果表明,当c(NaF)=0.1时,基板表面W含量约为75%;当c(NaF)=0.25和0.4时,基板表面钨含量达到近95%。当熔盐组分摩尔比为c(NaCl)∶c(KCl)∶c(NaF)∶c(WO3)=0.3385∶0.3385∶0.25∶0.073时,可获得致密而且表面质量较好的钨沉积层。
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文献信息
篇名 熔盐组分对电沉积钨层的影响
来源期刊 工业加热 学科 工学
关键词 钨镀层 电沉积 NaCl-KCl-NaF-WO3熔盐
年,卷(期) 2014,(6) 所属期刊栏目 工艺研究
研究方向 页码范围 39-41
页数 3页 分类号 TF841.1
字数 1790字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-1639.2014.06.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李运刚 河北联合大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室 55 232 8.0 13.0
2 李杰 河北联合大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室 30 109 7.0 8.0
3 梁精龙 河北联合大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室 10 35 4.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
钨镀层
电沉积
NaCl-KCl-NaF-WO3熔盐
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
工业加热
双月刊
1002-1639
61-1208/TM
大16开
西安市朱雀大街南端222号
52-41
1972
chi
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