硅烷偶联剂改性纳米SiO2的分散性能

• 作者: 刘彦生 杨建文 王红燕
• 来源期刊: 材料开发与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米SiO2 硅烷偶联剂 表面改性 分散性能
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 56-60
• 分类号: TQ127.2
• 语种: 中文

摘要

用硅烷偶联剂KH-570对纳米SiO2进行表面改性,用红外光谱仪(IR)、热重(TA)、Zeta电位、SEM、性能测试等对改性纳米SiO2进行了研究,结果表明,偶联剂KH-570与SiO2化学结合形成了Si-O-Si键,其附着量约5.8％,结合溶剂水约10.35％;改性纳米SiO2在乙醇介质中的Zeta电位由-14.9 mV减小到-41.1mV,体系稳定性可达60 h以上;改性SiO2用作光固化牙科复合树脂的填料,分散性显著提高,其维氏硬度、压缩强度、弹性弯曲强度等性能提高10％以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王红燕		9	30	3.0	5.0
2	杨建文	桂林理工大学化学与生物工程学院	36	101	6.0	8.0
3	刘彦生	桂林理工大学化学与生物工程学院	2	19	1.0	2.0