高分子薄膜去润湿孔增长动力学

• 作者: 卢宇源 安立佳 张万喜 李思佳 石彤非 蒋放
• 来源期刊: 高分子学报
• 关键词: 高分子薄膜 孔增长动力学 去润湿 成核增长
• 年，卷（期）: 2014,（9）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1174-1182
• 语种: 中文
• DOI: 10.11777/j.issn1000-3304.2014.14095

摘要

高分子薄膜去润湿是近年国内外表界面研究领域的热点.孔增长动力学作为高分子薄膜去润湿动力学的重要组成部分,对其进行深入研究,不仅可以促进人们对高分子薄膜去润湿过程的理解,而且可为高分子表界面图案化设计提供理论依据.近年来,有关去润湿孔增长动力学的理论、实验和计算机模拟工作很多,并且取得了较大的进展.本文综述了这一领域最为重要的研究工作,分析了理论预言与现有实验结果偏离的原因以及由此而呈现的重要问题,并对这一领域的研究方向进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张万喜	吉林大学材料科学与工程学院	49	397	10.0	17.0
2	石彤非	中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室	29	77	4.0	6.0
3	卢宇源	中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室	12	33	4.0	5.0
4	李思佳	吉林大学材料科学与工程学院	4	7	1.0	2.0
8	蒋放	中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室	2	6	1.0	2.0