酸性铬蓝K修饰电极的制备及其对抗坏血酸的测定

• 作者: 王一展 赵鹏 陈彦玲
• 来源期刊: 长春师范学院学报：自然科学版
• 学科: 工学
• 关键词: 修饰电极 电沉积 循环伏安法 抗坏血酸
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 页码范围: 65-67
• 页数: 3页
• 分类号: TQ460

摘要

应用电化学方法将酸性铬蓝K固定在玻碳电极（ GCE）表面上而制备出新型的修饰电极，并用循环伏安法对其电化学行为进行表征，考察了其对抗坏血酸的电催化性能。结果表明：在HAc-NaAc缓冲溶液（pH=3.6）中，-200-800 mV电位扫描范围内，抗坏血酸在此修饰电极上发现有一个氧化峰，并且此峰的高度和抗坏血酸的浓度成正比关系。在选定的最佳条件下，氧化峰电流与抗坏血酸的浓度在8×10^-8-1×10^-3 mol·L^-1范围内有良好的线性关系（R=0.9992），检出限为2×10^-8mol·L^-1（信噪比3∶1），并用于实际样品分析中，得到较满意的结果。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵鹏	长春师范大学化学学院	13	17	3.0	4.0
2	陈彦玲	长春师范大学化学学院	39	100	6.0	8.0
3	王一展	长春师范大学化学学院	2	0	0.0	0.0