用于模具自由曲面的新型气囊抛光中磨粒场的分析

• 作者: 张利 朴忠宇 李研彪 计时鸣 金明生
• 来源期刊: 中国机械工程
• 学科: 工学
• 关键词: 气囊抛光 压力 抛光力 材料疲劳去除机理
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 科学基金
• 页码范围: 832-835
• 页数: 4页
• 分类号: TG580.692
• 字数: 2581字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-132X.2014.06.025

摘要

为提高模具自由曲面抛光的效率和品质,提出一种基于柔性抛光理念的新型气囊抛光技术.研究了气囊抛光接触区内磨粒的运动轨迹、压力分布和抛光力的分布情况,建立了气囊抛光接触区内磨粒的运动模型、压力模型,揭示了气囊抛光接触区内磨粒直径对抛光力和被加工工件内部剪切应力的影响规律,研究了抛光过程中工件内部的剪切应力分布,明确了材料疲劳去除机理.为气囊抛光的应用奠定了理论基础.