熔石英再沉积层结构的纳米级表征和杂质分析

• 作者: 崔辉 易葵 杨俊 胡国行 邵建达 魏朝阳
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 熔石英 再沉积层 蚀刻 二次离子质谱
• 年，卷（期）: 2014,（7）
• 所属期刊栏目: ICF 与激光等离子体
• 页码范围: 100-104
• 页数: 5页
• 分类号: O436
• 字数: 2409字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201426.072011

摘要

利用原子力显微镜观察熔石英不同蚀刻时间的表面形貌,结合二次离子质谱分析,研究了熔石英的再沉积层结构和杂质分布.结果表明,熔石英表面深度10 nm的再沉积层内存在大量微裂纹和杂质,经蚀刻展开形成nm级划痕和坑点,其分布随着深度增加呈指数衰减.根据mm级划痕密度、宽深比随蚀刻深度变化的规律,估算出再沉积层厚度,估算结果与二次离子质谱测得的杂质嵌入深度基本一致.杂质元素嵌入深度与抛光微裂纹分布特征的关联性表明,杂质很有可能藏匿在抛光微裂纹中.